PECVD 镀膜工艺腔体的HS 编码确认,从日本进口过来到厦门港,预计6月份进口
2025-10-164次
以下是pecvd 镀膜工艺腔体的商品描述型号:cvd7-process01结构:是由大尺寸真空腔体、等离子体射频电源、真空泵、气体喷淋板电极、大面积加热板、升降机构、流量控制计mfc、真空计、特气系统等部件组件成.pecvd镀膜工艺腔体是pecvd核心关键组成部分,是pecvd的心脏,是pecvd的核心及关键技术,它是由pecvd真空腔体、等离子体射频电源、真空泵、气体喷淋板、大面积加热板、升降机构、流量控制计mfc、真空计、特气系统等部件组件成,干泵用于腔室的抽空,抽空过程中通真空计反馈并调节阀门(蝶阀/角阀)来控制腔室内的压力,气体通过气体质量流量控制器(mfc)精确控制气体比例并通过布气盒混合并均匀分部,基片通过加热器加热到预定的温度,然后经过电源对腔体进行启辉,实现在基片上沉积相应功能的薄膜。pecvd镀膜原理:是借助微波或射频电源使sih4\h2\ph3\bh3等等特殊气体电离,在气体喷淋头与接地加热板之间形成等离子体,气体离化之后再化学反应,在硅片上产生0.1纳米级薄膜,通常使用在半导体或液晶面板、太阳能电池行业;功能:通过pecvd化学气相沉积方式,在硅片上形成几十纳米的非晶硅钝化薄膜,通过不同掺杂,来实现n型薄膜与p型薄膜,从而形成pn结发电,它是异质结太阳电池最核心的工艺步骤,是制造异质结太阳电池的核心设备;主要指标是:真空度5*10-5;等离子体功率1kw-60kw;加热温度100-200度;加热均匀性±3度;镀膜均匀性±8;膜层厚度0.1nm-500nm用途:使用pecvd设备来生产异质结太阳电池
厦门海关 2023-05-16 16:01:00
请补充:1,pecvd完整设备的名称。2.完整设备的组成部分。3. 镀膜工艺腔体进口的状态,例如散件或集成一起。4.pecvd完整设备的应用领域,例如,除了半导体或液晶面板、太阳能电池行业外是否也可以应用其他领域。5..完整设备的工作过程。6.pecvd 镀膜工艺腔体本身的功能。
泰国旅游出境入境问题
西安海关春节加班确保通关顺畅高效
外籍人员在国内工作希望从国外购买自用车,应办理什么手续?适用什么政策?
关区海关查获大量涉嫌侵权手表及耳机
沪渝川合力打造口岸大通关 四川向东出海提速