回复编号971804，想确认pecvd 镀膜工艺腔体的hs编码:8486909900是否可以？预计6月份进口1，pecvd完整设备的名称。等离子体增强化学气相沉积设备pecvd2.完整设备的组成部分。进料腔、预热腔、工艺腔、隔离腔、冷却腔、出料腔，以及附属的电气机械零配件。3. 镀膜工艺腔体进口的状态，例如散件或集成一起。散件。4.pecvd完整设备的应用领域，例如，除了半导体或液晶面板、太阳能电池行业外是否也可以应用其他领域。无。5.完整设备的工作过程。硅片放在载板上由输送机构送入进料腔，再由进料腔送至预热腔位置，对硅片进行预热，到达一定温度后，硅片进入工艺腔开始镀膜，镀膜完成后，从工艺腔流出至冷却腔冷却，冷却后，流至出料腔，最后再从出料腔出来，完成镀膜整个流程。6.pecvd 镀膜工艺腔体本身的功能。进出料腔起到隔离作用，保证内部真空环境的稳定，预热腔和冷却腔主要起到预热和冷却的作用，工艺腔的作用主要是镀膜，而隔离腔作用是镀不同膜的时候，起到中间缓冲的作用。
厦门海关 2023-05-17 16:41:00
依据所提供的资料，若等离子体增强化学气相沉积设备pecvd 通用于半导体或液晶面板的生产，镀膜工艺腔体可能归入8486.3021，归类咨询仅供参考，不具法律效力。

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